ドーピング・熱処理

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【完全図解】イオン注入とは?不純物を「狙った深さ」に打ち込む装置の仕組み

イオン注入とは、不純物をイオンにして電気で加速し、ウェーハの狙った場所と深さに打ち込む前工程です。装置の中身、エネルギーとドーズ量、3種類の装置、結晶の傷とアニール、SiC向けの加熱注入、装置メーカーまで図解で整理します。
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熱酸化とは?シリコンを「焼いて」絶縁膜を作る半導体プロセスを図解

半導体の熱酸化を初心者向けに解説。SiO2ゲート酸化膜の作り方、ドライ酸化とウェット酸化の違い、KOKUSAI ELECTRICが強い縦型炉の世界を、図解と料理のたとえでわかりやすく整理。